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PVD法可在較低的溫度下制備具有優(yōu)異的性能的薄膜，而且所用的原料為固體，可制備金屬，化合物的薄膜。PVD法有正空蒸鍍，濺射成膜等等方法。玻璃瓶生產廠家把所謂真空蒸鍍在10-2Pa以下的真空中加熱固體物質使之蒸發(fā)并在基板上付著成膜，這是最基本的PVD法。徐州玻璃瓶廠把薄膜的形成的過程為蒸鍍原料在蒸發(fā)源被加熱，蒸鍍原料的分子或原子向機板處飛行，分子或原子附著于潔凈基板上并形成薄膜。
由于蒸發(fā)物不同在蒸發(fā)源處的溫度及真空度有所不同，玻璃瓶廠一般以物質蒸汽壓為1Pa時加熱的溫度為參考點而真空度選擇10-3Pa以下。分子或原子在到達基板前的飛行中最好不與殘留的氣體分子發(fā)生碰撞，從而可以保持蒸鍍前其所具有的能量。玻璃瓶生產廠家在溫度T時做熱運動的分子與其它分子不發(fā)生碰撞前進的距離為平均自由程，一般使蒸鍍的分子或原子與殘留氣體分子不發(fā)生碰撞的真空度應在10-2Pa以下。實際蒸鍍中除了蒸發(fā)的原子或分子入射并附著與基板上，這種氣體分子入射附著基板上的頻率，玻璃瓶廠由此要制備不含或含量甚微殘留氣體為雜質的薄膜，蒸鍍的真空應低一些好，實用的應在10-3Pa一以下。我們要求純度高的薄膜應在10-7Pa以下，其中為蒸鍍發(fā)源，與蒸發(fā)面積S相比，其開口面積S非常小，由此損失的分子若可以忽略的話，可以認為爐內的蒸汽壓平衡。此時玻璃瓶生產廠家由開口處噴出的分子數(shù)僅受爐內溫度影響，這一溫度高低即可控制分子向外飛散的強度。
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